Сообщения о запуске в Китае массового производства литографических машин для выпуска микросхем оказали давление на акции нидерландской ASML. Китайская Shanghai Aishengna Electronic Technology Group начала выпуск иммерсионных DUV-сканеров. Первые установки предназначены для местных производителей чипов, в том числе SMIC. Компания создана при участии команд, ранее связанных с Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). Но появление нового производителя пока не меняет расстановку сил: решающими остаются производительность оборудования и стабильность его работы. Важны также результаты длительной квалификации на фабриках.
Иммерсионную глубокую ультрафиолетовую литографию (DUV) применяют для широкого диапазона техпроцессов, примерно от 40 до 7 нм. Подобные установки используют как для выпуска зрелых микросхем, так и для более сложных производственных операций. ASML занимает ведущие позиции в сегменте передовых DUV-систем; среди значимых поставщиков есть и Nikon. Самые передовые операции, в том числе производство чипов по нормам 5 нм и меньше, связаны с экстремальной ультрафиолетовой литографией (EUV).
Китайские фабрики уже располагают большим парком импортных DUV-установок. По оценке Center for Technology and Statecraft, в первом квартале 2026 года в Китае работало около 270 систем ASML NXT:1980i. Отраслевые оценки за первую половину года говорят примерно о 343 иммерсионных DUV-машинах в общем, включая установки нескольких поколений. Поэтому местным производителям предстоит освоить собственную разработку и постепенно заменить уже используемое оборудование.
Запланированные объемы выпуска Aishengna пока заметно уступают производству ASML. Согласно оценке BeeBolt, китайская компания намерена собрать около пяти иммерсионных DUV-сканеров в 2026 году и примерно двадцать в 2027-м. Ориентир ASML на 2026 год составляет около 130 аналогичных систем. Даже если китайский план будет выполнен, объем Aishengna окажется меньше одной шестой этого показателя. Отдельные отраслевые прогнозы предполагают, что создание коммерчески конкурентоспособной китайской системы, способной стабильно обслуживать техпроцесс уровня 7 нм, потребует дополнительных лет разработки.
Число собранных машин говорит лишь об одном аспекте. Фабрикам важны скорость обработки пластин и точность совмещения слоев. Не меньшее значение имеют надежность оборудования и доступность сервиса, а также доля годных микросхем. Небольшая серия сама по себе не доказывает, что установка способна месяцами работать в режиме массового производства. Публичные оценки пока не показывают, что китайские сканеры сопоставимы с оборудованием ASML по выходу годных изделий или совокупной стоимости владения.
Экспортные ограничения США и их союзников прежде всего закрыли китайским производителям доступ к EUV-системам ASML, но поставки DUV-оборудования полностью не прекратились. Поэтому DUV остается важной частью китайской полупроводниковой отрасли. Без EUV некоторые более сложные структуры можно формировать многократным экспонированием. Дополнительные циклы увеличивают продолжительность и стоимость производства, а выход годных чипов может снижаться. Подобный подход частично компенсирует ограничения, но не устраняет разрыв в производительности и экономике выпуска.
Китай остается значимым рынком для ASML, поэтому инвесторы чутко реагируют на перспективы импортозамещения. По отраслевым оценкам, на Китай приходилось около 29% выручки ASML в 2024 году; во втором квартале того же года показатель достигал примерно 49%. Доля за 2025 год оценивалась примерно в 33%, а на 2026-й ожидалось около 20%. Речь прежде всего о риске постепенного сокращения будущих продаж в Китае, а не о немедленной угрозе глобальному лидерству компании.
Переход от DUV к EUV требует решения других инженерных задач. Reuters сообщало о китайском прототипе EUV-машины, но коммерческое производство таких установок остается долгосрочной задачей. На разработку EUV-технологии ASML и ее партнерам потребовалось более двух десятилетий и миллиардные инвестиции. Однако ASML остается единственным производителем коммерческих EUV-систем, необходимых для наиболее передовых производственных операций.
Литографическая установка проецирует рисунок будущих электронных компонентов на кремниевую пластину и слой за слоем создает структуру микросхемы. Поэтому важны оптическая система и точность экспонирования. Значение имеют также опыт эксплуатации, программное обеспечение и обслуживание; машина должна быть интегрирована в производственный процесс. В ближайшей перспективе китайские DUV-разработки скорее создают стратегический риск для будущего спроса на оборудование ASML в Китае, чем вытесняют компанию с мирового рынка. Для Испании и других европейских стран эта динамика важна с точки зрения устойчивости поставок электроники и сохранения технологических компетенций ЕС.
